搜索结果: JJF 1932-2021, JJF1932-2021
JJF 1932-2021: 椭偏仪校准规范
中华人民共和国国家计量技术规范
椭 偏 仪 校 准 规 范
2021-12-08发布
2022-06-08实施
国 家 市 场 监 督 管 理 总 局 发 布
椭偏仪校准规范
归 口 单 位:全国光学计量技术委员会
主要起草单位:中国计量科学研究院
中国兵器工业第二〇五研究所
参加起草单位:中国电子科技集团公司第四十一研究所
上海市计量测试技术研究院
陕西省计量科学研究院
本规范委托全国光学计量技术委员会负责解释
本规范主要起草人:
刘文德 (中国计量科学研究院)
陈 赤 (中国计量科学研究院)
王 雷 (中国兵器工业第二〇五研究所)
参加起草人:
孙权社 (中国电子科技集团公司第四十一研究所)
叶军安 (上海市计量测试技术研究院)
李 奕 (陕西省计量科学研究院)
目 录
引言 (Ⅱ)
1 范围 (1)
2 引用文件 (1)
3 术语和计量单位 (1)
4 概述 (2)
5 计量特性 (3)
5.1 波长示值误差 (3)
5.2 光谱带宽 (3)
5.3 入射角示值误差 (3)
5.4 椭偏角测量重复性 (3)
5.5 波片延迟量示值误差 (3)
5.6 椭偏角示值误差 (3)
6 校准条件 (3)
6.1 环境条件 (3)
6.2 测量标准及其他设备 (3)
7 校准项目和校准方法 (4)
7.1 校准前检查 (4)
7.2 波长示值误差 (4)
7.3 光谱带宽 (4)
7.4 椭偏角测量重复性 (4)
7.5 入射角示值误差 (4)
7.6 波片延迟量示值误差 (5)
7.7 椭偏角的示值误差 (6)
8 校准结果表达 (6)
9 复校时间间隔 (7)
附录A 校准证书内页格式 (供参考) (8)
附录B 校准原始记录格式 (供参考) (10)
附录C 不确定度评定示例 (12)
附录D 硅表面氧化硅的椭偏光学模型 (15)
附录E 波片调节示例 (16)
引 言
JJF1001 《通用计量术语及定义》、JJF1059.1 《测量不确定评定与表示》和
JJF1071 《国家计量校准规范编写规则》共同构成支撑本规范编订的基础性系列规范。
本规范为首次发布。
椭偏仪校准规范
1 范围
本规范适用于波长范围在250nm~2000nm内的椭偏仪的校准。
2 引用文件
本规范引用了下列文件:
JJF1497 偏光仪校准规范
GJB/J5463 光学薄膜折射率和厚度测试仪检定规程
凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本规范;凡是不注日期的引用文
件,其最新版本 (包括所有的修改单)适用于本规范。
3 术语和计量单位
3.1 入射面 planeofincidence
入射光束和反射光束张成的面 [SEMIE141-0705椭偏装置6]。入射 (反射)角规
定为入射 (反射)光与样品表面法线之间的夹角,参见图1 (a)。
(a)入......
|